書誌情報

< 前へ [ 1 / 1 ]   次へ >
978-4-7980-6245-7
資料の種別 図書 資料情報のコピー
書名 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み(ヨク/ワカル/サイシン/ハンドウタイ/プロセス/ノ/キホン/ト/シクミ)
外部サイトで調べる: 石川県内図書館横断検索で調べる図書館検索サイト「カーリル」で調べる国立国会図書館サーチで調べる
副書名 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰(シリコン/ガ/ハンドウタイ/ニ/ナル/セイゾウ/コウテイ/オ/フカン)
微細化の課題(ビサイカ/ノ/カダイ)
著者名等 佐藤/淳一‖著(サトウ,ジュンイチ)
版次 第4版
出版者 秀和システム/東京
出版年 2020.9
所蔵数
館内でのみ利用可能な資料
貸出可能な資料
貸出中の資料(割当または回送中含む)
予約件数(割当含む)
所蔵数
1 冊
館内でのみ利用可能な資料
0 冊
貸出可能な資料
1 冊
貸出中の資料(割当または回送中含む)
0 冊
予約件数(割当含む)
0 件
番号 資料番号 配架場所(配架案内) 請求記号 状態
1
資料番号:
100528066
配架場所:
MAP3F / 南(S) / S23 / 技術・工学
請求記号:
549.8/サト ヨ
状態:
在庫
< 前へ [ 1 / 1 ]   次へ >
書誌、所蔵ページの表示は以上です。