2025/05/13
| 資料の種別｡ |
図書｡
 資料情報のコピー
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| 書名｡ |
入門フォトマスク技術(ニュウモン/フォトマスク/ギジュツ)｡
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| 副書名｡ |
LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク(エルエスアイ/エフピーディー/ピーダブリュービー/メムス/ノ/タメ/ノ/フォトマスク)｡
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| 著者名等｡ |
田邉/功‖著(タナベ,イサオ)｡
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| 竹花/洋一‖著(タケハナ,ヨウイチ)｡
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| 法元/盛久‖著(ホウガ,モリヒサ)｡
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| 出版者｡ |
工業調査会／東京｡
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| 出版年｡ |
2006.12｡
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| ページと大きさ｡ |
323p／21cm｡
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| 件名｡ |
リソグラフィー｡
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| 分類｡ |
NDC8 版：549.7｡
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| NDC9 版：549.7｡
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| NDC10版：549.7｡
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| ISBN｡ |
4-7693-1259-8｡
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| 価格｡ |
¥3800｡
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| タイトルコード｡ |
1009910789760｡
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| 内容紹介｡ |
半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。｡
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| 著者紹介｡ |
千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。（有）ＩＴコンサルティング代表取締役社長。｡
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| 大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻卒業。ＭＥＴ研究所所長。｡
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| 所蔵数｡ |
館内でのみ利用可能な資料 ｡ |
貸出可能な資料｡ |
貸出中の資料（割当または回送中含む） ｡ |
予約件数（割当含む）｡ |
- 所蔵数
- 1 冊
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館内でのみ利用可能な資料 - 0 冊
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- 貸出可能な資料｡
- 1 冊
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貸出中の資料（割当または回送中含む） - 0 冊
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- 予約件数（割当含む）
- 0 件
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| 番号｡ |
資料番号｡ |
配架場所（配架案内）｡ |
請求記号｡ |
状態｡ |
| 1｡ |
- 資料番号：
- 007185879｡
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- 配架場所：
- B書庫（「書庫とりよせ」ボタンで申請し、カウンターでお受け取りください。）｡
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- 請求記号：
- 549.7/ﾀﾅ ﾆ｡
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- 状態：
- 在庫｡
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このページのURL：https://www.library.pref.ishikawa.lg.jp/wo/opc_srh/srh_detail/1009910789760