絵とき薄膜基礎のきそ
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全ての情報
| タイトル | 絵とき薄膜基礎のきそ |
|---|---|
| 著編者等/著者名等 | 小林春洋‖著 |
| 出版者 | 日刊工業新聞社 |
| 出版年 | 2006.12 |
| 内容紹介 | 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。 |
| 種別 | 図書 |
| タイトル | 絵とき薄膜基礎のきそ |
|---|---|
| タイトルヨミ | エトキハクマクキソノキソ |
| シリーズ名 | Electronics Series/ |
| シリーズ名ヨミ | エレクトロニクスシリーズ |
| 著編者等/著者名等 | 小林春洋‖著 |
| 統一著者名 | 小林春洋 |
| 著編者等ヨミ/著者名等ヨミ | コバヤシ,ハルヒロ |
| 出版者 | 日刊工業新聞社 |
| 出版地 | 東京 |
| 出版年 | 2006.12 |
| 大きさ | 9,168p |
| 件名 | 薄膜 |
| 分類 | 549.8,549.8 549.8 |
| ISBN | 4-526-05791-6 |
| マークNo | TRC000000007000064 |
| タイトルコード | 1009910795048 |
| 資料番号 | 00000000000007092026 |
| 請求記号 | 549.8/10045 |
| 内容紹介 | 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。 |
| 種別 | 図書 |
| 配架場所 | 034B0 |
