入門フォトマスク技術

• タイトルヨミ: ニュウモンフォトマスクギジュツ
• サブタイトル: LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
• サブタイトルヨミ: エルエスアイエフピーディーピーダブリュービーメムスノタメノフォトマスク
• 著編者等／著者名等: 田邉功‖著 竹花洋一‖著 法元盛久‖著
• 統一著者名: 田辺功 竹花洋一 法元盛久
• 著編者等ヨミ／著者名等ヨミ: タナベ,イサオ タケハナ,ヨウイチ ホウガ,モリヒサ
• 出版者: 工業調査会
• 出版地: 東京
• 出版年: 2006.12
• 大きさ: 323p
• 件名: リソグラフィー
• 分類: 549.7,549.7 549.7
• ISBN: 4-7693-1259-8
• マークNo: TRC06062271
• タイトルコード: 1009910789760
• 資料番号: 007185879
• 請求記号: 549.7/ﾀﾅ ﾆ
• 内容紹介: 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
• 種別: 図書
• 配架場所: 034B0